Wafermap-Designs basierend auf Zernike Polynomen
In der Halbleiterindustrie ist eine kleine Schwankung (Gleichmäßigkeit) der Ergebnisse vieler Prozessschritte über den Wafer hinweg ein wesentliches Ziel und eng mit der Endausbeute korreliert. Es ist wichtig, ein Urteil über die Homogenität auf der Grundlage einer effizienten Stichprobe von Punkten zu treffen: Typische Abweichungen von diesem Ziel müssen mit einer erschwinglichen (d. h. kleinen) Anzahl von Testpunkten auf dem Wafer erkannt werden. Leicht zu interpretierende Abweichungen von der Ebenheit können durch Zernike-Polynome beschrieben werden, die dem Stand der Technik bei der Beschreibung optischer Anomalitäten beim menschlichen Auge oder in der adaptiven Optik entsprechen. Dieser Bericht beschreibt Zernike-Polynome und zeigt, wie man mit der Statistiksoftware Cornerstone die Messstellen optimal auf der Waferoberfläche platziert.
/New%20Whitepaper%20Thumbnail/Whitepaper_Zernike%20Polynomials.webp)
Hier herunterladen
Weitere Seiten erkunden
Entdecken Sie wertvolle Ressourcen - von unseren neuesten Nachrichten, Veranstaltungen und Webinaren bis hin zu White Papers -, die Einblicke in die Fertigungsautomatisierung und Innovation bieten.







Diskutieren Sie mit den Experten von camLine über Lösungen
Unser Team ist bereit, maßgeschneiderte Lösungen zu liefern, die Ihre Produktion rationalisieren, die Produktqualität verbessern und die Effizienz in Ihrem Betrieb maximieren. Nutzen Sie die jahrzehntelange Erfahrung von camLine in der digitalen Transformation, um Ihre Herausforderungen in der Fertigung zu meistern.